低溫恒溫循環(huán)槽MD20-4低溫恒溫循環(huán)槽MD20-4可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫槽MD10-20低溫恒溫水槽提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)裝置JMYZ-2-A主要有壓縮機(jī)、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等部件組成,可以直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,各檔制冷功率輸出,滿(mǎn)足常規(guī)實(shí)驗(yàn)室小制冷量輸出的和設(shè)備需求,廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門(mén)、高等院校、企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門(mén),為用戶(hù)工作時(shí)提供一個(gè)冷熱受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境,對(duì)試驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品在槽內(nèi)直接進(jìn)行恒定溫度試驗(yàn)或測(cè)試,如對(duì)旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫。
加熱制冷浴槽MD30-12,容積12L,控溫范圍-30℃~90℃,用于石油化工、制藥及半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域低溫測(cè)量與檢定,樣品保存等浸入式實(shí)驗(yàn)或外循環(huán)應(yīng)用
詳細(xì)內(nèi)容>>加熱制冷浴槽MD30-8主要有壓縮機(jī)、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等幾大件組成,可以直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥及半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域低溫測(cè)量與檢定,樣品保存等浸入式實(shí)驗(yàn)或外循環(huán)應(yīng)用。
低溫恒溫槽MD10-20提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫槽MD10-4,容積4.5L,控溫范圍-10℃~90℃,溫度波動(dòng)度0.05℃,樣品保存、分析測(cè)試、石油、化工、電子儀表、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測(cè)試及化學(xué)分析等行業(yè)等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用
詳細(xì)內(nèi)容>>冷卻水循環(huán)機(jī)JM11BK,制冷量1100W,為用戶(hù)提供恒溫,恒壓,恒流的液體環(huán)境,精密恒溫控制系統(tǒng),整個(gè)量程范圍的溫度精確可控,適用于5℃~35℃化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制等.
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-12可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-8可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-4可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-20,容積20L,控溫范圍:-20℃~90℃(最高溫度100℃),制冷系統(tǒng)采用思科普壓縮機(jī),可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于-20℃的樣品保存、分析
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫槽MD10-20,容積20L,控溫范圍-5℃~90℃,最高溫度100℃,作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-12,容積12L,控溫范圍-20℃~90℃,最高溫度100℃,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-8,容積8L,溫度波動(dòng)度0.05℃,用于-20℃的樣品保存、分析測(cè)試和計(jì)量檢定等
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫水槽MD5-8,容積8L,控溫范圍-5℃~90℃,最高溫度100℃,配置9點(diǎn)溫度校準(zhǔn)和單點(diǎn)溫度校準(zhǔn),溫度數(shù)據(jù)更可靠
詳細(xì)內(nèi)容>>低溫恒溫水槽MD5-4,容積4.5L,控溫范圍-5℃~90℃,溫度波動(dòng)度0.05℃,提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用
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